5月16日消息，據(jù)“京東方創(chuàng)新匯”，近日，京東方（BOE）在2025國際顯示周上發(fā)布了基于量子點(diǎn)直接光刻技術(shù)（direct photolithgraphy of quantum dots in QLED）及大面積涂布（Slit Coating）工藝的7.9英寸4K AMQLED（主動(dòng)矩陣式量子點(diǎn)發(fā)光二極管）平板樣機(jī)。這是繼2023年京東方發(fā)布量子點(diǎn)直接光刻法AMQLED技術(shù)（DP-QLED）以來又一新的技術(shù)突破，是AMQLED量子點(diǎn)電致發(fā)光技術(shù)邁向量產(chǎn)的重要里程碑。

據(jù)介紹，該樣機(jī)除依托量子點(diǎn)及主動(dòng)式電致發(fā)光技術(shù)實(shí)現(xiàn)95%BT.2020高色域以及1000000：1高對比度外，還基于可量產(chǎn)工藝的大面積涂布技術(shù)以及RGB Stripe像素排列，實(shí)現(xiàn)了560 PPI的真實(shí)像素密度，大幅超越蒸鍍及噴墨打印技術(shù)的分辨率限制，使得量子點(diǎn)電致發(fā)光顯示面板的像素密度達(dá)到新高度，顯示效果更細(xì)膩。

2023年，京東方發(fā)布了量子點(diǎn)直接光刻技術(shù)（DP-QLED），無需FMM，該技術(shù)可根據(jù)客戶需求實(shí)現(xiàn)各種像素形狀、顯示尺寸、分辨率的自由組合，突破了傳統(tǒng)蒸鍍與噴墨打印制程對分辨率的限制。此次，通過量子點(diǎn)直接光刻技術(shù)（DP-QLED）和大面積涂布技術(shù)的強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合，京東方將AMQLED量子點(diǎn)電致發(fā)光顯示技術(shù)推上新的高度，為實(shí)現(xiàn)更高品質(zhì)顯示貢獻(xiàn)了重要力量。